Filtro de paso de banda UV de 355 nm

Obtener el último precio

Tipo de Pago:	T/T,Paypal,Western Union
Cantidad de pedido mínima:	1 Piece/Pieces
transporte:	Air,Express
Hafen:	ShangHai

Size:

D12x6mm D15x5mm 80x80x1mm

Contactar ahora

Descripción

Atributos del producto

Embalaje y entrega

Descripción

Atributos del producto

Marca: ÓPTICA UTE

Personalización De Soporte: OEM, ODM

Lugar De Origen: porcelana

Number: BP1620nm

Descripción: High Reflection Filters

Proceso: IAD Cubro duro

CWL: 1620±5nm

FWHM: 20nm

Transmittance: T＞60%

Cut Off Rate:: OD4 200-1100nm

Raw Material: BK7 or Corning gorilla glass or other optical glass

Calidad De La Superficie (S/D): 60/40 o mejor

Embalaje y entrega

Unidades de venta	:	Piece/Pieces
Tipo de paquete	:	Embalaje individual

The file is encrypted. Please fill in the following information to continue accessing it

Descripción

Filtro de paso de banda UV de 355 nm

El filtro ultravioleta de banda estrecha de 355 nm es un producto óptico recubierto fabricado con vidrio ZWB1 que transmite rayos ultravioleta. Se fabrica utilizando materiales de película óptica ultravioleta, deposición asistida por iones y técnicas de recubrimiento de doble cara. Este tipo de filtro se aplica ampliamente en instrumentos ópticos, dispositivos médicos, metalurgia, finanzas, equipos fotográficos, aviación, aeroespacial, instrumentación, equipos militares, investigación científica e instrumentos de prueba.

El paso de banda UV de 355 nm está diseñado específicamente para el tercer armónico de los láseres Nd:YAG (355 nm), que se utiliza ampliamente en aplicaciones como micromecanizado, marcado láser y excitación de fluorescencia UV. El aislamiento eficaz de la longitud de onda de 355 nm requiere el uso de filtros de borde pronunciado con revestimiento duro que proporcionan un fuerte bloqueo en los espectros visible e infrarrojo, minimizando así los armónicos parásitos y la fluorescencia de fondo.

Los sustratos de sílice fundida de grado UV garantizan una alta transmisión en el rango UV y exhiben una autofluorescencia mínima desde la región UV profunda hasta aproximadamente 2,1 µm. Además, los revestimientos antirreflectantes de banda ancha reducen las pérdidas superficiales a aproximadamente un 0,5 % por superficie. Los ingenieros deben considerar el efecto de desplazamiento al azul dependiente del ángulo de incidencia (AOI), ya que las bandas de paso de interferencia tienden a desplazarse hacia longitudes de onda más cortas cuando se inclinan o se exponen a haces rápidos f/#. Por lo tanto, se recomiendan diseños telecéntricos o de montaje de incidencia normal.

Dado que la mayoría de los detectores de silicio mantienen una capacidad de respuesta adecuada hasta aproximadamente 350 nm, la detección de 355 nm sigue siendo muy eficiente utilizando cámaras o fotodiodos estándar, lo que facilita el desarrollo de instrumentación. Sin embargo, se deben seleccionar ventanas ópticas apropiadas para bloquear las fugas de luz visible.

La óptica UTE acepta varios tipos de filtros personalizados. Bienvenido a consultar.